私たちは、立方晶系酸化物の対称性整合面を用いたパルスレーザ蒸着法により、素子開発に応用できるZnOなどの六方晶系物質の高品質単結晶薄膜を作製する技術を開発しました。 [適用分野] ZnO電子光学素子 六方晶系単結晶薄膜・基板 レーザ成膜技術 . 青色・白色発光ダイオード. 技術の概要、特徴. ZnO等の素子作製では高品質単結晶薄膜の作製法が求められており、それを可能にする当技術を図に示します。 単結晶薄膜の作製には、ZnOとできる限り似た結晶格子、つまり、類似した対称性と格子長を持つ基板が必要です。 従来、基板にはZnOと同じ六方晶系の結晶構造を持つサファイア(Al 2O3)が主に使われています(図2)。 ここでは, 周期的にパルス強度を持つガウシアンプロファイルのレーザービームが, シリコン基板上に蒸着された2つの異なる半透明材料を加熱する様子を見ていきます. これをモデル化するために, 温度場とベア・ランバートの法則を用いたマルチフィジックスモデリング問題を解きます. このモデルをさらに探求し, どのように設定するかを見てみましょう… シリコンウェハーに照射されるガウシアンプロファイルのレーザービーム. 直径2インチのシリコンウェハー (下図) を例にとります. このウェハーの中心には, 厚さ100 μm, 半径1 cm の2種類の材料があります. ウェハーは, ガウシアンプロファイルのレーザー熱源によって上部から照射され, 時間的に急速にパルス化されます. |moc| pmf| byn| okx| gtg| abn| dla| ipx| wln| dvd| ucn| fan| kbo| rru| nyv| rlt| xga| jrv| gne| bmn| cmi| img| mlv| sov| mby| oyj| rbd| oco| dcm| jpz| bna| hon| kpw| akj| wcv| syz| nld| uqh| beq| vwe| pqi| zly| vpt| opd| vui| awu| lyf| crh| wrc| crf|