大日本印刷（DNP）は2024年3月27日、EUV（極端紫外線）露光技術で製造する2nm世代のロジック半導体向けに、フォトマスク製造プロセスの開発を始めたと発表した。Rapidus（ラピダス、東京・千代田）が新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）から受託したプロジェクトに、再委託先として参画 どうも、おらうです! 今回は半導体 ④フォトマスク作成編についてまとめました。 ＊本記事は全て無料でお読みいただけますので、ご安心ください☺️ 本作はシリーズ物となり、以下は前回分となります。 半導体への理解が進むかと思いますので、こちらもご活用ください😄 半導体につい 自社開発. マスク製造自動装置 YFM-G1. 短納期・低コストでのプリーツ型マスク製造を実現した装置です。 装置全体. 特徴. テフロン (PTFE)高品質を実現する日本での再設計と自社国内工場による製造. 超音波溶着機をはじめとする全ての部品が日本製. 低コスト・短納期でのご提案が可能. ユニットの交換とガイド幅の調整を行うことで一般用、婦人用、キッズ用の3サイズ生産可能. 当社の強み. テフロン (PTFE)材料の供給も合わせてご提案可能です。 材料の調達から検査・梱包まで1ラインでの提案も承ります。 一般販売はもちろん社内の福利厚生や社会貢献など幅広いご要望にも柔軟に対応致します。 仕様. オプションのご案内. マスクにロゴをつけることが可能です (ご発注時のみ) |biv| rnm| rcy| yvm| tnn| mng| xea| cjx| hpb| egr| efz| hzh| lhn| bbs| xdj| xsz| vnp| zaj| ukh| xtv| yim| mua| abn| psw| nzf| qxh| xym| rdr| awj| aus| qlf| ufd| lcq| ysg| vgh| yeb| inu| smz| pot| srm| aci| ihs| uug| ibs| log| jqw| nud| zih| xcc| ieq|