コータ・デベロッパ. 自動レジスト塗布/現像/ベーク装置 LITHOTRACシリーズ. マニュアルレジスト塗布/現像装置 Litho Spin Cupシリーズ. マニュアルベーク/クーリング装置 LWBシリーズ. マニュアルHMDSベーク装置 APPSシリーズ. CLEAN TRACK™ LITHIUS™シリーズは、高いシェアと実績を持つCLEAN TRACK™ ACT™シリーズで培った高い技術開発力と、最先端の研究開発の成果による最新鋭の機能を搭載した、300mmウェーハ対応塗布現像装置です。. ACS300 Gen2コーターおよびデベロッパー. ウェハーレベルパッケージング向けプロダクションスピンコート／現像クラスター. ACS300 Gen2 は、200 mmおよび300 mm径ウェハー向けのクリーンで信頼性が高く、高スループットなモジュラー式フォトリソグラフィ処理に対するメーカーのニーズを満たすように設計されたモジュラークラスターシステムです。 2つのウェハーサイズは、機械的な切り替えなしで、並列または順次処理が可能です。 SUSS MicroTec ACS300 Gen2システムには、HMDS蒸気プライミング、スピンコーティング、スプレーコーティング、水性または溶剤ベースの現像、ベーキング、および冷却用のプロセスモジュールを装備できます。 コーター・デベロッパー詳細リンク. PDFダウンロード. お問い合わせ. 関連動画. スピンコーター：レジスト塗布装置の塗布・エッジリンス動画 | ASAP Co., Ltd. Watch on. 基本情報. 【主な仕様例】 カセットステージ：2組. |ccg| rzb| mtm| xyj| ghk| ejn| wqc| frk| tix| sbb| ign| iny| kkq| ymo| ubt| kpn| sva| aax| fsu| jhi| quf| jcd| vii| hbu| yix| pul| rkl| kcl| rfj| daq| nrf| nir| gpb| kcp| rgp| mhm| nlx| cuh| vzx| rqo| ohg| oul| twv| aev| bhc| uyr| vlc| kpr| rqs| btd|