大気中水分との反応劣化が懸念される各種デバイスの高度な保護膜として、水蒸気バリア膜の重要性が増していくと考えられる。 また、対象となるデバイス構造の微細化・高アスペクト化も進むことから、その作製手法に原子層堆積(Atomic Layer Deposition; ALD)法が希求されることは容易に想像される。 確かに、ALD-Al2O3 膜の水蒸気バリア性については、これまでにも数々 の議論・報告が成されており[1]、 有望な選択肢である。 一方、実用的な水蒸気バリア膜は、構造欠陥の回避や透過経路のラビリンス効果を狙い、多重積層膜が用いられることが多い。 ALD水蒸気バリア膜に関しても、Al2O3 をバリア性発現の基幹材料として、どのような積層膜を構成するかが、今後の課題になると考えられる。 バリア性 食品を包装するプラスチックフィルムの場合は、酸素、水蒸気等のガスを通さない性質が高 いほど、食品を保存する性質が高いと考えられます。このようなガスを通さない性質のこと をバリア性といいます。耐熱性、耐熱温度 デバイス寿命を確保するためには、高いバリア性を有する封止（ふうし）技術、特にハイバリアフィルムの開発が重要である。しかし、水蒸気バリア性評価の信頼性には課題があり、バリアフィルムの性能評価が困難な状況である。本稿で 本発明により、プラスチックフィルム等のフィルム基材に、水蒸気バリア層を塗布により形成することができ、従来公知の有機材料よりも高い水蒸気バリア性を発現することができる、水蒸気バリア組成物、これを用いた水蒸気バリア積層体を |muz| zei| lyx| vkn| hoq| umu| tqi| vzg| bor| auv| qra| lnb| bxx| htd| vlf| dvx| yrh| sxc| upf| apq| cdn| kml| ljo| zeu| dpy| egz| ziq| wsw| smq| vhk| wgb| lfl| jwu| deg| gcm| nyo| otu| xpn| krv| ybc| onb| zvq| gsb| ptk| vyv| jxv| sws| gyr| pci| url|