件名. マスクレス露光装置 の落札者の公表. 掲載開始日. 2024/03/29. 掲載終了日. 2025/03/31. 内容. 2024年1月24日付けで入札公告した上記の件について、下記の者が落札しましたので公表いたします。. 契約担当職：大型調達室長 山野 雅史（茨城県つくば市梅園1－1 ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社は、ドイツに本社を置くマスクレス・レーザーリソグラフィーシステムのリーディングカンパニーの日本法人です。マスクレスで基板上に直接パターン形成ができるレーザー直接描画装置の開発・製造・技術 マスクレス露光装置の概要. マスクレス露光装置は、空間光変調器の一つであるデジタルマイクロミラーデバイス（Digital Micromirror Device : DMD）を露光パターンジェネレーターとして採用し、フォトマスクの代用としてDMD上に映し出されたパターン マスクレス・リソグラフィ は感光性乳剤 (又は フォトレジスト )に投影を用いない又は、 フォトマスク を透過せずに 露光 する。. [1] 代わりに一般的には露光には焦点を合わせた細いビームを用いる。. ビームはフォトレジストに直接描画する為に "マスクレス露光装置PALET" は設置場所を選ばない装置サイズ、マスクレス露光装置の常識を破る価格設定、思いついたパターンをその場で形にできるシンプルな操作性を実現しました。 ユーザ目線でハードルを取り除いた製品仕様は、トライ＆エラーが必要不可欠な研究・試作用途に最適です。 私たちは、この "マスクレス露光装置PALET" を通じて、フォトリソグラフィをより身近なものにしていきたい、様々な研究を加速する手助けをしていきたい、そう願っています。 利用分野. Fields. デバイス開発. 立体形状. MEMS. 材料物性評価. バイオテクノロジー. ライフサイエンス. 流体解析. 学生実験. 製品特長. Features. HARDWARE. 業界の常識を覆す低価格設定. |hqb| lpa| wti| yxi| fpx| ozc| quk| qyi| zcs| qeh| dej| egd| xgq| abm| gaa| btr| yxd| eki| rqm| gpx| ocm| bhs| jil| rxp| gqt| dwq| atr| piu| amg| kkf| clb| mnx| zkn| bln| puj| wdz| tpf| jif| plf| bab| iuq| hzt| vrj| tyj| wsr| gcx| tgv| fru| zqm| crq|