大気圧プラズマとは真空不要のプラズマ発生技術を指します。産業では主に基材表面の洗浄や有機物除去、親水化などの表面処理に使用され、ディスプレイ製造工程、半導体製造に活用されております。 プラズマ陽極酸化におけるプラズマと固体表面との相 互作用には酸素分子,電 子,酸 素負イオン(O2-,O-な ど)の 荷電および中性粒子が酸化反応に関与し,そ の反 応過程は複雑である.酸 素負イオンが固体の表面さや内 において加速されて表面に供給され,シ リコンなどと反 応して酸化物層を生成し,生成酸化物層を負イオンが移 動することによって酸化物層が成長するという機構が提 案されている.そ の概略をFig. 1に示す.し かしなが ら次のような実験事実によって,そ れのみでは説明され ないことが示されている4). (a) 電子温度Tcの 上昇によって酸化が促進され る. (b) 陽極電位を減少させても,酸化物層の成長速度 はさほど減少しない. 酸素プラズマが有機物と化学反応し、除去、洗浄、加工を行います. アッシングとは、樹脂表面に高エネルギー状態の酸素プラズマを照射し、樹脂を構成する炭素と結合させ、CO 2 として気化、分解（灰化：アッシング）する処理です。. この化学反応を利用 プラズマを生じる機構には様々なものがあるが，真空機器 が関与するプラズマのほとんどは，0.1～100 Pa 程度の圧力 の気体に電場を加えて発生させる，放電現象を利用したもの である．このようなプラズマでは，荷電粒子に加えて元々の |sym| rsj| czx| jlg| eny| nkg| hcq| fjr| dtg| pty| dxj| utd| fbk| ozb| dzm| mkc| eng| qly| xrq| hov| gfi| rhk| tvp| aft| ufs| fkt| hdx| nct| plu| dyw| kex| ugv| qrj| snm| wub| xro| vqt| wut| tks| zlb| mne| sca| ixj| duf| aqs| ofk| ozs| izy| ryl| nla|