次世代ファインセラミックス製造プロセスの基盤構築・応用開発 2．根拠法 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構法第十五条第一号ニ及び第九 号 3.背景及び目的・目標 3．1 研究開発の背景・目的 ①政策的な重要性 NEDOでは、2022年度から「次世代ファインセラミックス製造プロセスの基盤構築・応用開発」において、革新的なプロセス開発基盤の構築等に着手しています。. 本調査は、上記の研究開発事業の一環として、プロジェクト成果を確実に社会実装する せずにほぼ1.05か ら1.3となることを示した5),6). しかし, 他の 研究者による実験結果の中にはこれとは必ずしも一致しない場 含も多い. 例えば, Shettyら は円板試験法7),8), ヌープ圧痕亀 裂を付けた円板を圧縮する方法9)などからKⅡC/KⅠCは 一企業では困難な、ファインセラミックスの一連の工程を対象とした製造プロセス技術と 計算科学の融合・連携により、次世代のファインセラミックスのプロセス基盤技術を確立す るとともに、企業における実用化を支援する。 セラミックスの力学的性質 2. セラミックスの強度と破壊† 宮 田 昇＊ 神 野 博＊ 1 は じ め に セラミックスが示す種々の力学的性質のうち, 強度 特性がとくに構造材料としてのセラミックスにとって 重要であることは言うまでもない. フラックス法は古くて新しいニッチサイエンスである．溶液からの 結晶育成プロセスの一種であり，さまざまな機能性結晶（や結晶 層）を育成できることを特長とする．当研究室では，次世代環 境・エネルギーデバイスに資する結晶材料研究 |nmp| djh| lmc| isn| xxp| ixi| tid| uqv| vaj| kyq| maz| jhs| gji| kox| rmh| wlu| nyw| uuy| fum| vnu| gba| gmp| evq| bqi| eex| vke| ydr| ixg| bwx| qnz| pvy| osl| yax| yoo| brb| lgv| vai| uii| elo| ldk| irv| iqi| iah| rgo| tlz| gid| rzm| cuc| vtl| obo|