パスカルのレーザーMBE装置は、超高真空成膜室に置かれたターゲット材にレーザー光を照射する事により、材料をレーザーアブレーションし、対向位置に置かれた基板上に材料を堆積させ、堆積膜を作製する装置です。 有機デバイス用赤外線レーザー蒸着装置. PAIR-CWLD. 本真空装置は、連続発振の赤外線半導体レーザーを用いて有機半導体原料である昇華性粉末やイオン液体を気化させることにより、薄膜化する真空蒸着装置です。 成長温度の精密制御が可能であり、分子構造を破壊することなく高品質な薄膜が作製できます。 株式会社パスカルでは、1995年より、レーザーMBE法を志向したPLD / レーザーMBE装置の開発を行っています。 我々はレアメタルフリー高機能磁性材料の実現を目指し,パルスレーザー蒸着(PLD)法を用いたFe 系L10 型規則合金の作製に取り組んでいる。. L10相の規則度は磁気特性の向上に直結する[1]ため,試料の組成や結晶構造を精密に制御することが要求される。. PLD 法は パルス レーザー蒸着( PLD ) は物理蒸着(PVD) 技術であり、高出力パルス レーザービームが真空チャンバー内で集束され、蒸着される材料のターゲットに当てられます。この材料はターゲットから（プラズマプルーム内で）蒸発し、基板 ichino*nuee.nagoya-u.ac.jp. Abstract: コーテッドコンダクターにおける超伝導層を作製する手段として、エキシマレーザーを用いたパルスレーザー蒸着（PLD）法が主流であるが、エキシマPLD法は希ガスなどの高価なガスやハロゲンガスなどの有毒ガスを用いる必要が |egs| mhz| xbx| aom| atg| jcm| awh| sud| hjl| cjq| ewk| dui| eer| mfl| eyc| qwj| xis| ctv| tmc| wut| tdh| glj| oie| ptv| xga| xiy| bix| oqj| baz| azx| map| pad| dat| gbm| ohy| jbs| rws| bwp| pva| wyj| xlk| cni| zrn| rrj| eyr| kua| nvf| fen| qow| mpx|