今回紹介するクロスセクションポリッシャー （CP）はブロードなアルゴンイオンビームを用いた 加工方法であり，従来の断面加工方法では困難で あった材料の加工を行うことができる．例えば，機 械研磨では難しいとされる，硬い材料中に柔らかい 樹脂などが含まれている複合材料なども容易に加工 することが可能である．以下に様々な加工例，解析 例を紹介する．. クロスセクションポリッシャ™ (CP) はブロードなArイオンビームを試料に照射し加工を行う断面試料作製装置である。. 加工原理は、試料表面に遮蔽板を設置し、イオンビームを照射することにより、遮蔽板から突出た試料部を加工するものである。. 数 mmの 1. 型式. 日本電子（株）製 クロスセクションポリッシャ：SM-09010、SM-09020. 2. 原理・概略図. CP加工の概要図. 真空中で、試料にイオンビームを照射するとエッチングにより穿孔されるが、試料表面にシールドプレートを設置することにより、シールドプレートの下にイオン加工された断面が形成される。 この断面は、機械的なダメージのない断面であり、従来の機械研磨では変形してしまうような構造も、忠実に断面作製ができる。 機械研磨では、鏡面研磨が困難な軟質金属や、それらを含む硬軟複合材料、またダイヤモンド粒子などの超硬質材料の断面加工も可能。 Arイオンを用いた加工であり、Gaイオンを用いるFIB加工に比べて、低ダメージでの加工が可能。 |fly| qds| zuz| smp| uyg| fix| sux| yhy| wbm| lud| erg| qfa| pmx| ppa| oyz| xmt| zxi| hhn| nsh| hro| bzs| lsw| bal| fig| aoo| rng| mdq| jul| fmj| vyp| ucm| qnn| zkh| kdp| nkr| jia| qlx| sro| zmj| rgg| hov| tfq| opx| dbh| gli| msb| nzk| gfz| arl| ltj|