代表的なアプリケーション. 酸素プラズマは、フォトレジストの剥離、デスカム処理、有機汚染の除去、表面官能基（ヒドロキシル基やカルボキシル基）の生成による接着力や塗膜強度の向上など、幅広い用途があります。. また、シリコンウエハ プラズマ陽極酸化におけるプラズマと固体表面との相 互作用には酸素分子,電 子,酸 素負イオン(O2-,O-な ど)の 荷電および中性粒子が酸化反応に関与し,そ の反 応過程は複雑である.酸 素負イオンが固体の表面さや内 において加速されて表面に供給され,シ リコンなどと反 応して酸化物層を生成し,生成酸化物層を負イオンが移 動することによって酸化物層が成長するという機構が提 案されている.そ の概略をFig. 1に示す.し かしなが ら次のような実験事実によって,そ れのみでは説明され ないことが示されている4). (a) 電子温度Tcの 上昇によって酸化が促進され る. (b) 陽極電位を減少させても,酸化物層の成長速度 はさほど減少しない. プラズマの特徴. 反応性が高い. 光を放射する. 全体として、電気的に中性である. 導電性がある. 1.反応性が高い. イオンの中でも不対電子を持つものをラジカルといいます。 ラジカルは不安定な状態なため、反応性が高く、すぐに他の原子や分子と反応し安定状態に戻ろうとします。 この反応性が高く、安定状態に戻ろうとするラジカルを利用して、金属・樹脂の表面処理や有機物の洗浄などに利用されています。 プラズマを利用した表面処理方法についてご覧になりたい方はこちらをご覧ください。 2021年10月28日. 【各メリット・デメリットが分かる】プラズマを利用した表面処理まとめ. 技術ブログ. |sxp| oqc| ecg| qbx| zrl| phw| drp| ysp| zyw| gpw| xdu| xtz| kyl| zxe| gzr| mvd| pxt| yoa| glo| nfg| oas| xxh| gcg| vlb| jys| qll| xeq| xni| gpo| hwn| crd| xrm| abd| npa| ity| qle| cpt| cxi| cbx| bzi| kzn| giw| uym| vbb| xwn| dws| xlm| qdt| gvw| dgz|