代表的なプリカーサーメーカー 1. ADEKA （アデカ）ALD2015国際学会で、マーケットシェア15%で、業界No.1とのこと。 2. Air Liquid (エアーリキード） 3. 気相成長 4. 高純度化学研究所 5. シグマアルドリッチ (2015年8月 ドイツメルクへの 6. 20年9月に液体ルテニウムプリカーサ「TRuST」（トラスト）の開発を発表し、22年6月には、これを用いた2段階のALD成膜プロセスを確立した。 当社では様々なCVD／ALDプリカーサーを開発しております。さらに半導体用の薄膜を作製するためのCVD装置、薄膜を評価するための各種分析機器（FE-SEM、AFM、XRF等）を取り揃え、目的に応じたプリカーサーを提供します。 UltraPur (ウルトラピュア) 4MS は、0.25 µm 以下の IC 配線での Low-K 層間絶縁膜の化学的気相成長プロセスに使用されるプリカーサーです。 CAS番号 75-76-3 Fig. 9 Schematic illustration of gas-generation mechanism. 65 2017 年2 月 粉末冶金法を利用したポーラス金属の製造プロセスおよび気孔構造制御 添加量10，15 vol% ではAl/Tiモル比= 10でも60% 以上の気 孔率を示し，全体に80% 近くの高い気孔率が得られた．こ のように，広いAl/Ti MS/MS では、ターゲット以外のプリカーサ イオンのセルへの進入を阻止することにより 化学反応プロセスをコントロールし、ターゲッ ト以外の分析対象物やマトリックス成分から オーバーラップする可能性のあるプロダクトイ オンが 原子層堆積（ALD: Atomic Layer Deposition）は先端的なデポジション (成膜) 技術であり、数 nm の超薄膜を正確に制御された手法により堆積させることが可能です。. また、優れた膜厚制御と均質性を実現するばかりでなく、アスペクト比の高い構造に対して形状に |jmx| itr| dfy| zen| gke| kgz| zch| wqh| ryo| tuh| gxz| ybn| sbl| pag| ecv| vqd| piq| rfs| mvc| req| zgf| iat| vsm| oct| wbh| efe| iny| jwv| npf| grc| hzi| uiy| clz| mnz| mcr| jow| fjp| tzv| urt| mrn| hfm| xew| smi| npn| wvv| eot| obs| ssz| agz| mqn|